Hafnium

Från Rilpedia

Hoppa till: navigering, sök
Wikipedia_letter_w.pngTexten från svenska WikipediaWikipedialogo_12pt.gif
rpsv.header.diskuteraikon2.gif
lutetium - hafnium - tantal
Zr
Hf
Rf 
 
Hf-TableImage.png
Periodiska systemet
Allmänt
Namn, kemiskt tecken, nummer hafnium, Hf, 72
Ämnesklass övergångsmetaller
Grupp, period, block 4, 6, d
Densitet 13310 kg/m3 (273 K)
Hårdhet 5,5
Utseende Grå metallisk
Hf,72.jpg
Atomens egenskaper
Atommassa 178,49 u
Atomradie (beräknad) 155 (208) pm
Kovalent radie 150 pm
Elektronkonfiguration [Xe]4f145d26s2
e per skal 2, 8, 18, 32, 10, 2
Oxidationstillstånd (oxid) 4 (amfoterisk)
Kristallstruktur Hexagonal
Ämnets fysiska egenskaper
Aggregationstillstånd solid
Smältpunkt 2506 K (2233 °C)
Kokpunkt 4876 K (4603 °C)
Molvolym 13,44 ·10-6 m3/mol
Ångbildningsvärme 575 kJ/mol
Smältvärme 24,06 kJ/mol
Ångtryck 0,00112 Pa vid 2500 K
Ljudhastighet 3010 m/s vid 293,15 K
Diverse
Elektronegativitet 1,3 (Paulingskalan)
Värmekapacitet 140 J/(kg·K)
Elektrisk ledningsförmåga 3,12 × 106 S/m (Ω−1·m−1)
Värmeledningsförmåga 23 W/(m·K)
1a jonisationspotential 658,5 kJ/mol
2a jonisationspotential 1440 kJ/mol
Mest stabila isotoper
Isotop Förekomst Halv.tid Typ Energi (MeV) Prod.
172Hf syntetisk 1,87 år ε 0,350 172Lu
174Hf 0,162 % 2 × 1015 år α 2,495 170Yb
176Hf 5,206 % 176Hf, stabil isotop med 104 neutron(er)
177Hf 18,606 % 177Hf, stabil isotop med 105 neutron(er)
178Hf 27,297 % 178Hf, stabil isotop med 106 neutron(er)
179Hf 13,629 % 179Hf, stabil isotop med 107 neutron(er)
180Hf 35,1 % 180Hf, stabil isotop med 108 neutron(er)
182Hf syntetisk 9 × 106 år β 0,373 182Ta
SI-enheter & STP används om ej annat angivits

Hafnium är ett silvergrått metalliskt grundämne. Hafnium används i bland annat radiorör och glödlampor. Det återfinns i zirkoniummineraler. Namnet kommer av Hafnia, som är det latinska namnet för Köpenhamn, där grundämnet upptäcktes 1923 av Dirk Coster och George de Hevesy.

Användning

Hafnium absorberar neutroner bra och används ibland i kärnkraftverk för att stoppa neutroner. Det kan också användas i legeringar med bland annat järn och titan.

En hafnium-baserad legering är en kandidat för High-K-isoleringen som kommer att används i framtida generationers processorer. Intel och IBM har forskat inom området och har funnit att hafnium-baserade material är bättre isolatorer än kiseldioxid, vilket gör att man kan producera chip som är snabbare, mindre och mer energisnåla. Intel har nu börjat tillverka 45-nanometersprocessorer med hafnium.

Framställning

Hafnium separeras från zirkonium (som har liknande egenskaper) genom vätske-vätske-extraktion.

Se även

Personliga verktyg